Система AMD 2: градиентное элюирование в ВЭТСХ
Артикул: 022.8860
Бренд: CAMAG AG
Страна производства: Швейцария
Camag AMD позволяет решать задачи, которые невозможно получить с помощью обычной ТСХ. Только с помощью AMD можно выполнять воспроизводимое градиентное элюирование на пластинах с силикагелем. В ВЭЖХ градиентное элюирование выполняется только с обращенно-фазными колонками, а не на силикагеле, для которого градиентное элюирование неприемлемо. Для ВЭТСХ это не является критичным.
- ВЭТСХ пластина элюируется многократно в одном том же направлении. В каждом последующем шаге дистанция фронта увеличивается.
- По окончании каждого шага элюент полностью удаляется с пластины вакуумированием камеры.
- В каждом последующем шаге полярность элюента снижается и формируется так называемый ступенчатый градиент.
- Комбинация эффекта «фокусирования» и градиентного элюирования позволяет получать очень узкие зоны с шириной пика около 1 мм, что подразумевает полное разделение до 40 компонентов на дистанции 80 мм.
Добавить комментарий